論文relation
Si-SiO_2界面の遷移領域の熱処理効果
スポンサーリンク
概要
論文の詳細を見る
著者
張 依群
九州大学大学院システム情報科学研究科電子デバイス工学専攻
和田 修一
Ddi株式会社
菊竹 陽
富士通株式会社
和田 修一[他]
DDI株式会社
関連論文
CoSi_2ゲートMOS形トンネル電子放出素子の評価
MOS形トンネル電子エミッタ作製のためのCoSi_2ゲート電極形成
Si-SiO_2界面の遷移領域の熱処理効果
CoSi_2ゲートMOSトンネル構造の形成と評価
スポンサーリンク
論文relation | CiNii API
論文
論文著者
博士論文
研究課題
研究者
図書
論文
著者
お問い合わせ
プライバシー