RFスパッタリングTa膜の特性ー基板温度および放電ガス圧の影響ー
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 鶴岡工業高等専門学校の論文
- 1988-12-21
著者
関連論文
- ε-空間と思考系
- 脳の温度と記憶
- 超音波照射による溶液法PMMA皮膜の誘電特性
- 酸化物超電導体の諸特性
- 酸化物超電導体および超電導特性測定装置の試作と特性
- 平面をおおう正多角形回路網における接続構造の解析
- 傾斜構造RFスパッタ膜の製作と特性
- 酸化物超電導体の諸特性ー元素混合割合変化の影響ー
- 静電気測定装置の製作と測定結果 ?
- 蒸着電極によるTSCの変化
- 布地の摩擦帯電特性
- 酸化物超電導体の諸特性ー焼きなまし温度の影響ー
- 静電気測定装置の製作と測定結果
- 酸化物超電導体の諸特性ー焼結時間および焼きなまし時間の影響ー
- RFスパッタリングTa膜の特性ー放電ガス圧による諸特性の不連続変化ー
- RFスパッタリングTa膜の特性ー基板温度および放電ガス圧の影響ー
- 比透磁率μs 荷重による変化
- 超高真空スパッタ成膜装置による成膜とその特性