水素ガスによる石英ガラスのエッチング速度
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概要
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Etching of quartz glass with flowing hydrogen gas was performed in a range of 800 to 1200℃. The quartz glass showed significant resistance to the etching at 800 to 1000℃. However, in a range of 1100 to 1200℃, the quartz glass was affected by etching. The weight loss in a range of 1100 to 1200℃ was directly proportional to experimental temperature and etching time. The removal rate of a quartz glass specimen at 1200℃ in the gas linear flow rate of 2000 cm/min was about 12nm/min.
- 東海大学の論文
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