光散乱及び干渉法を利用した電圧・電流センサの基礎研究
スポンサーリンク
概要
著者
関連論文
- 4p-PS-10 沈澱パターン形成過程 I
- 化学反応波の伝搬のダイナミックスと流体現象
- 1S06 強誘電波晶に見られるストライプピッチのダイナミクスとD-Eヒステリシス
- 14A16 強誘電液晶のD-E特性にみられる抗電界の膜厚依存性
- 14A15 モノドメイン内でのしきい値分布とその尖鋭性
- 14A14 強誘電液晶DOBAMBCの2重ヒステリシス
- 2J19 カイラル液晶の熱的性質と自発分極
- アモルファス強磁性リボンによる超音波伝搬と距離センサの構成
- 高配向性ケイ素鋼板の磁壁観察法と大張力の印加・除去による鉄損減少
- アモルファス双安定磁歪リボンによる高感度ディジタルセンサ
- コーティングをもつ方向性珪素鋼板の磁区パターン測定
- 方向性けい素鋼巻磁心の動的磁区幅と鉄損の機構
- 方向性珪素鋼巻磁心の動的磁区幅と鉄損の機構
- 高透磁率テープ巻磁心の動的磁区幅
- 線形インダクタンスを用いた高透磁率磁心の交流消磁法
- 角形ヒステリシス磁心の交流消磁法
- 小豆種子の発芽・生長のダイナミックスと異常生物発光
- 液晶の電気流体力学的不安定性における構造形成とその外部雑音効果
- 回転磁場下のネマチック液晶におけるパターン形成
- 1Q19 強誘電液晶DOBAMBCの光電流
- 4W17 カイラルな分子を混合させたDOBAMBCの強誘電的特性
- 3V19 カイラルな分子を混合させたDOBAMBCの光透過率
- 29a-YX-6 発芽のダイナミックスとフォトン放射
- 光散乱及び干渉法を利用した電圧・電流センサの基礎研究
- 2J18 強誘電液晶のD-Eloopの電界振幅特性
- 東海発電炉の熱系の伝達関数
- 3K110 スメクチックX相の電気光学効果(III) : メモリー効果の膜厚依存性とドーピング効果
- 2A14 強誘電液晶8SI^*の誘電的特性
- 3B112 強誘電液晶8SI^*のメモリー効果とそのパルス幅依存性
- 3B111 強誘電液晶8SI^*の界面効果に依存する反転過程と活性化電界
- 2Z08 Smectic X相のドメインの反転過程
- 2Z07 Smectic X相のメモリーと基板界面の効果
- 1連F06 強誘電液晶DOBAMBCの界面効果に起因する誘電特性
- 1連F01 強誘電液晶8SI^*のSmX相におけるメモリー効果
- 2J17 Unwinding-Hericoidal相の臨界膜厚とその温度特性
- 6. 化学反応を伴なった界面に生ずるソリトン状運動(V.物性におけるソリトン,ソリトン系のダイナミックスとそれに関するカオスの問題,基研長期研究会報告)
- 25a-H-11 乱流I : 乱流II転移と外部雑音の影響
- 沈澱とパターン : 乱流、沈殿パターンと太陽系に見られるパターンダイナミックス
- 電気流体力学的不安定性における乱流 : 乱流転移と欠陥乱流
- 電気流体力学的不安定性における乱流 : 乱流転移と欠陥乱流(流体力学におけるトポロジーの問題)