大気中熱処理後のPt/Ti/SiO_2薄膜におけるPt薄膜密着機構の検討

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2010-09-01

著者

• 和田 充弘

  三井金属鉱業株式会社総合研究所

• 田平 泰規

  三井金属鉱業株式会社総合研究所

• 田平 泰規

  三井金属鉱業 総合研 研究開発セ

関連論文

• 大気中熱処理後のPt/Ti/SiO2薄膜におけるPt薄膜密着機構の検討
• 時分割型 In-situ XRD 法によるLaNi_5の速度論的構造評価
• 気相-固相反応用時分割型 in-situ XRD 評価システムの開発
• 大気中熱処理後のPt/Ti/SiO_2薄膜におけるPt薄膜密着機構の検討
• 高温雰囲気下におけるPt/Ti薄膜の動的 In-Situ FE-SEM 観察
• 透光性硫化ルテチウムセラミックスの作製と評価
• 加熱処理により単結晶レベルの高抵抗温度係数を得たPt/Sapphire薄膜
• 加熱処理により単結晶レベルの高抵抗温度係数を得た Pt/Sapphire 薄膜

スポンサーリンク