シリコンのアノード酸化
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 2010-02-01
著者
関連論文
- テレビジョン・ホログラフィ干渉法を用いた電解めっき膜の内部応力のその場測定
- 太陽光水分解・湿式太陽電池 (特集 太陽エネルギー変換の最近動向)
- ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっき膜の微細構造と電気伝導性
- n型シリコン上への白金微粒子電析に及ぼす置換反応の影響 (第276回[日本材料学会腐食防食部門委員会]例会 Workshop「若手技術者による腐食・防食」(17))
- 座談会 表面技術に見る夢 (踏み出そう!新たな一歩)
- テレビジョン・ホログラフィ干渉法を用いためっき膜の内部応力の測定
- 1136 無電解めっき膜の内部応力のその場測定
- 表面技術に見る夢
- めっき技術の温式太陽電池への応用 - 半導体電極上への金属微粒子析出 -
- シリコン半導体電極を用いる高効率湿式太陽電池--金属微粒子による表面修飾
- 光電気化学における表面修飾
- 無電解めっきの活性化前処理に用いられるセンシタイジング液の経時変化
- Sn-Ag-Cu鉛フリーはんだとの接合信頼性に優れた無電解純Niめっき
- 1134 TVホログラフィ干渉法を用いた電解めっき膜の内部応力のその場測定(G03-1 材料力学(1)計測1,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- II 表面技術に見る夢
- 平滑アルミナ基板と無電解純Niめっき膜の密着性と内部応力との関係
- TiO_2光触媒を利用したマグネシウム合金上への無電解めっきの光パターニング
- シリコンのアノード酸化
- 兵庫県立大学 大学院工学研究科物質系工学専攻 物質・エネルギー部門 : 材料表面工学研究グループ
- 高導電性光沢純ニッケル薄膜の自己触媒析出
- 高導電性光沢純ニッケル薄膜の自己触媒析出
- ヒドラジンを還元剤とする無電解純ニッケルめっきの浴組成の単純化
- ヒドラジンを還元剤とする無電解Niめっき膜の光沢性と結晶配向性
- ヒドラジンを還元剤とする無電解Niめっき膜の光沢性の向上
- n型シリコン上への貴金属微粒子電析に及ぼす置換反応の影響
- n型シリコンのパラジウム援用フッ化水素酸エッチング
- 二液法活性化により非導電性基板上に形成される吸着物と無電解Ni-Pめっき初期析出物の微視的形態
- 無電解Ni-P/TiO_2複合めっき膜の構造と光電流密度
- 無電解めっきの二液法活性化前処理により非導電性基板上に形成される吸着物
- 無電解めっきの活性化前処理により基板に形成される吸着物の量および形態 - センシタイジング液のエージングの影響 -
- 無電解めっきの活性化前処理により絶縁性基板上に形成された触媒核の直接観察
- 無電解めっきの活性化前処理におけるSnおよびPdの吸着量とCo-Pめっき皮膜の表面形態
- 無電解めっき法におけるセンシタイジング液の長寿命化 -溶存酸素制御と安定化剤添加の効果-
- ポ-ラスシリコンを用いた湿式太陽電池
- 高効率低コストな新型太陽電池 -白金超微粒子によるn-Si光電極表面の修飾-
- 無電解めっき法による半導体複合めっき膜の作製とその光電気化学特性
- Rh電析膜中の水素誘起超多量空孔の影響
- 表面技術協会のIT化
- 無電解ニッケルめっき液のゼロエミッションリサイクル
- めっき膜中の水素の挙動
- 新型太陽電池
- アモルファスシリコン電極を用いる湿式太陽電池 (エネルギ-変換の化学と技術) -- (光エネルギ-の変換)
- シリコン基板上に形成した金属ナノロッドの太さと無電解めっき膜の密着性
- ジニトロスルファト白金(II)酸浴から電析したPt膜中の水素
- アルゴンプラズマエッチングがシリコンへの金属微粒子無電解置換析出に及ぼす影響
- シリコン基板上に形成した金属ナノロッドの太さと無電解めっき膜の密着性
- Behavior of Hydrogen in Electrodeposited Metal Films
- シリコン基板上に形成した金属ナノロッドの太さと無電解めっき膜の密着性