日本半導体産業における研究開発のあり方

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 2009-09-10

著者

• 湯之上 隆

  株式会社エフエーサービス 半導体事業部

• 有門 経敏

  東京エレクトロン株式会社 開発部門

• 有門 経敏

  東京エレクトロン

関連論文

• 300mmウェハに対応した最小線幅30nmの微細加工技術 (超LSI製造・試験装置ガイドブック 2004年版) -- (プロセス技術編)
• 日本半導体産業における研究開発のあり方
• 21世紀の半導体産業の展望 : 新市場型破壊的イノベーションへの期待

スポンサーリンク