Effects of Hydrogen and Deuterium Annealing on Plasma Process-Induced Damages
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概要
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- 1999-09-20
著者
-
Kang B.
Pohang理工大
-
Kim Y.
Samsung Electronics Co. Ltd. Semiconductor Business Asic Division
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AHN C.
Pohang University of Science and Technology, Department of Electrical Engineering
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KIM J.
Pohang University of Science and Technology, Department of Electrical Engineering
-
LEE Y.
SAMSUNG Electronics Co. Ltd., Semiconductor Business, ASIC Division
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Lee Y.
Samsung Electronics Co. Ltd. Semiconductor Business Asic Division
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Lee Y.
Samsung Electro-mechanics
-
Kim J.
Pohang University Of Science And Technology Department Of Electrical Engineering
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