MBE法で作製した高 J_c as-grown MgB_2 薄膜の磁束ピンニング特性
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概要
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- 2006-05-15
著者
-
渡辺 和雄
東北大金研強磁場セ
-
吉澤 正人
岩手大院工
-
淡路 智
東北大
-
入宇田 啓樹
岩手大工
-
原田 善之
JSTサテライト岩手
-
入宇田 啓樹
岩手大院工
-
藤吉 孝則
熊本大学工学部
-
藤吉 孝則
熊本大
-
藤吉 孝則
熊本大学情報電気電子工学科
-
末吉 哲郎
熊本大
-
吉澤 正人
岩手大
-
末吉 哲郎
熊本大学
-
高橋 輝一
岩手大院工
-
入宇田 啓樹
岩手大学大学院工学研究科博士前期課程(フロンティア材料機能専攻)
-
春田 正和
熊本大
-
木原 眞太郎
熊本大
-
原田 義之
いわて産業振興センター
-
宮川 隆二
熊本県工技センター
-
渡辺 和雄
東北大
-
春田 正和
産業技術総合研究所
-
高橋 輝一
岩手大学工学部
-
藤吉 孝則
熊本大学
-
宮川 隆二
熊本県工業技術センター
-
高橋 輝一
岩手大
-
春田 正和
熊本大学工学部
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