A Novel Clean Ti Salicide Process Using Grooved Gate Structure
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概要
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- 1998-09-07
著者
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Hizawa K.
Semiconductor Technology Laboratory Oki Electric Industry Co. Ltd.
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Matsuhashi H.
Semiconductor Technology Laboratory Oki Electric Industry Co. Ltd.
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NISHIKAWA S.
Semiconductor Technology Laboratory, Oki Electric Industry Co., Ltd.