ECRプラズマCVDによる低誘電率SiOF膜の形成

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概要

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• 1995-05-25

著者

• 深田 卓史

  住友金属工業(株)

• 赤堀 孝

  住友金属工業(株)

• 赤堀 孝

  住友金属工業 未来技研

• 赤堀 孝

  住友金属工業 (株) 研究開発本部

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