低温・低速度MBE法による As-grown MgB_2 膜の作製と臨界電流
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概要
著者
-
中西 良樹
岩手大院工
-
吉澤 正人
岩手大学大学院工学研究科
-
原田 善之
JSTサテライト岩手
-
入宇田 啓樹
岩手大院工
-
野口 悟
大阪府大院工:大阪府大ナノ研
-
石田 武和
大阪府立大学大学院工学研究科
-
野口 悟
大阪府立大学大学院工学研究科電子物理工学分野
-
原田 善之
(財)いわて産業振興センター
-
入宇田 啓樹
岩手大学大学院工学研究科博士前期課程(フロンティア材料機能専攻)
-
高橋 輝一
岩手大学大学院工学研究科(材料物性工学専攻)
-
中西 良樹
岩手大学工学部材料物性工学科
-
高橋 輝一
岩手大
-
野口 悟
大阪府立大学院
-
吉澤 正人
岩手大学大学院
-
野口 悟
奈良先端科学技術大学院大学情報科学研究科
-
石田 武和
大阪府立大学
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