ADVANCES IN HIGH-K GATE DIELECTRIC AND METAL GATE TECHNOLOGY USING ATOMIC LAYER CVD^<TM>

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概要

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• 2002-06-06

著者

• Maes J.

  Asm Belgium

• DE WAARD

  ASM America

• WERKHOVEN C.

  ASM America

• RITTERSMA Z.

  Philips Research Leuven

• MASSOUBRE D.

  Philips Research Leuven

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