薄いRu下地層を用いたCoSiO_2/PtSiO_2多層膜垂直磁気記録媒体

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概要

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• 2004-09-21

著者

• 瀧澤 直樹

  富士電機デバイステクノロジー(株)

• 河田 泰之

  富士電機アドバンストテクノロジー(株)

• 小野 拓也

  富士電機アドバンストテクノロジー(株)

• 磯 亜紀良

  富士電機デバイステクノロジー(株)

• 上住 洋之

  富士電機デバイステクノロジー(株)

• 河田 泰之

  富士電機総合研究所

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