パラレルPSAプロセスによるクリプトン回収

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概要

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マイクロ波励起高密度プラズマ装置を利用した革新的な半導体プロセスが提案されている．そのプロセスの特徴として，Krをプロセスガスとして使用することが挙げられる．Krは空気中に1.14ppmしか存在しないため，非常に高価である．そのため，N2が約50%，Krが約50%含まれる排出ガスからKrを回収し，再利用することが必要となる．市販の活性炭とゼオライトについて，N2とKrの平衡吸着量および吸着速度を評価した．活性炭が平衡吸着量差を示すこと，NaA型ゼオライトが吸着速度差を示すことが明らかになった．この平衡吸着量差による分離プロセス（PSA I）と吸着速度差による分離プロセス（PSA II）からなるKr回収装置を開発した．この回収装置は，回収率99.5%で，純度99.99%のKrを製造することが可能であった．後段にゲッター式の精製器を加えることにより，Krの再利用が可能である．
2002-09-20

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