大面積 Catalytic Chemical Vapor Deposition 装置の開発

スポンサーリンク

概要

• 論文の詳細を見る
• 日本真空協会の論文
• 2004-05-20

著者

• 斎藤 一也

  株式会社アルバック超材料研究所

• 大園 修司

  株式会社アルバック超材料研究所

• 内山 雄司

  株式会社アルバック超材料研究所

• 坪井 秀夫

  株式会社アルバック第1FPD事業部

• 浅利 伸

  株式会社アルバック超材料研究所

• 斎藤 一也

  アルバック 超材料研

• 斎藤 一也

  株式会社アルバック千葉超材料研究所

関連論文

• ITO透明導電膜形成用ナノ粒子インクの開発 (特集 透明導電膜の研究動向)
• 大面積触媒CVD装置の開発
• 大面積 Catalytic Chemical Vapor Deposition 装置の開発
• 希土類ドープITO膜及びチッ化Si膜の光学特性
• ITO透明導電膜形成用ナノ粒子インクの開発

スポンサーリンク