珪酸エチルを用いたリモートプラズマCVDによる高段差被覆性シリコン酸化膜の形成プロセス解析

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概要

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• Heat Transfer Society of Japanの論文
• 1999-09-01

著者

• 岡崎 健

  Department of Mechanical Engineering and Science, Tokyo Institute of Technology

• 石丸 和博

  Department Of Mechanical Engineering Gifu National College Of Technology

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