プラナリゼーションCMPにおけるクリーンネスの確保 : 有機酸によるSi基板洗浄技術

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概要

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• 2000-03-01

著者

• 高田 涼子

  三菱マテリアル(株)シリコン研究センター

• 畑野 桂司

  三菱マテリアル(株)シリコン研究センター

• 高石 和成

  三菱マテリアル(株)シリコン研究センター

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