コンピューター制御によるパルス電析Co-Cu多層・合金膜の磁気抵抗効果
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概要
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- 1999-10-01
著者
-
近澤 進
室蘭工大工
-
近澤 進
室蘭工大 工
-
上田 勇治
室蘭工大
-
宝賀 剛
室蘭工大
-
高倉 亘
室蘭工大
-
高倉 亘
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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近澤 進
室蘭工大
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上田 勇治
室蘭工業大学 工学部
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宝賀 剛
室蘭工業大学工学部電気電子工学科
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室賀 剛
室蘭工業大学
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