ULSIプロセスにおけるCoシリサイド化反応の解析

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概要

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• 日本電子顕微鏡学会の論文
• 1999-11-01

著者

• 小川 真一

  プロセス開発センター

• 堤 紀久子

  松下電子工業(株)・半導体社・システムLSI事業部・プロセス開発部

• 杉山 龍男

  プロセス開発センター

• 江藤 竜二

  プロセス開発センター

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