シリコン/シリカ膜界面におけるホウ素の平衡偏析係数と活量
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概要
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- 1998-09-01
著者
-
川岸 京子
独立行政法人物質・材料研究機構超耐熱材料センター
-
福山 博之
東北大学多元物質科学研究所
-
須佐 匡裕
東京工業大学大学院理工学研究科
-
永田 和宏
東京工業大学工学部
-
福山 博之
東京工業大学大学院理工学研究科
-
須佐 匡裕
東京工業大学
-
川岸 京子
東京工業大学 院
-
福山 博之
東京工業大学 大学院工学研究科
-
川岸 京子
金属材料技術研究所
-
川岸 京子
物質・材料研究機構
-
須佐 匡裕
東京工大
-
腰越 史浩
東京工業大学 工学部
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