拡がるUV応用技術
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1998-02-15
著者
関連論文
- 放射線グラフト重合法におけるグリシジルメタクリレートモノマーのアルコール溶媒がカチオン交換多孔性膜の性能に及ぼす効果
- キレート多孔性膜を用いる有機ゲルマニウム化合物p.t-CEtGeOの回収
- L膜およびLB膜の膜面内方向での分子配向とパターニング(機能性有機薄膜・一般)
- 電圧印加による色素L膜およびLB膜の分子配向
- 解説 放射線グラフト重合法で作製した多孔性膜を用いた金属イオンの高効率補集 (特集 廃水・廃棄物の新処理技術)
- 多孔性中空糸膜の孔表面に付与したグラフト高分子鎖への酵素の固定
- 多孔性膜の孔表面に固定したグラフト高分子鎖の架橋とその応用
- アミノアシラーゼ多層架橋固定膜のバイオリアクターへの応用
- ウシ血清アルブミン多層吸着多孔性膜を用いたトリプトファンのキラル分離
- 血清アルブミンを多層吸着させた多孔性中空糸膜による光学異性体の分離
- 多孔性アニオン交換中空糸膜モジュールのタンパク質吸着および溶出性能
- 4p-S4-6 ポリジアセチレンLB膜の低エネルギー電子透過
- ポリマ-の崩壊に対するジアゾニウムテトラフルオロボラ-トの選択的触媒活性 (高分子の分解,劣化,及び安定化)
- 電子写真感光体電子親和力の絶対測定への試み
- 乾式平版のインキはく離機構
- 28a-B-10 固体→液体相転移における鎖状高分子ポリエチレンの伝導帯構造変化
- 6a-AE-12 直鎖アルカン分子結晶の二次電子エネルギー分布曲線と電子照射損傷
- レジスト表層改質によるレジストパターン形成に関する研究
- メロシアニン色素LB膜のJ会合体形成制御
- 2a-A-3 UPSによるCH_3[CH_2]_CH_3結晶融解追跡
- アゾ染料画像記録材料への金属塩添加による発色および光退色抑制効果
- アラキジン酸/C_TCNQ二層構造LB膜の作製と高電気伝導性評価
- ジアゾ化合物-18-crown-6錯体の可視光形成膜への応用
- ジアゾ化合物-18-crown-6錯体の可視光形成膜への応用
- 熊野谿從先生,叙勲おめでとうございます
- プラスチックスの表面改質 1. 高分子材料の界面物性と表面改質
- Photodegradable Toners for Electrophotography 3. Accelerated Photodegradation and Suppressed Photocrosslinking of Matrix Resin-Their Dependence on Polymer Composition, UV-light Source, and Irradiation Conditions
- 拡がるUV応用技術
- RadTech North America '96
- アニオン交換多孔性中空糸膜への二成分タンパク質の吸着特性
- 微細加工用レジストの最近のトピックス--化学増幅型表層パタ-ニングプロセス
- 光崩壊性ポリマ-の情報記録への応用--最近4年間の文献調査レビュ-
- 高分子表面のぬれと接着 (表面・界面)
- プラスチック表面のぬれと接着(付着)--ハ-ドコピ-用素材として利用する立場から
- 光崩壊性高分子の研究
- 亜硫酸塩水溶液による二酸化窒素の還元反応に関する研究
- 亜硫酸塩水溶液による二酸化窒素の還元反応に関する研究
- 高分子表面のぬれと接着 (表面・界面)