ヘテロ原子を含むフッ素系のフロン代替物の開発
スポンサーリンク
概要
- 論文の詳細を見る
- 1996-09-05
著者
-
関屋 章
物質工学工技研
-
関屋 章
通商産業省工業技術院 物質工学工業技術研究所 有機合成化学部
-
三崎 進
(財)地球環境産業技術研究機構 新世代冷媒プロジェクト室
-
三崎 進
地球環境産業技術研究機構
関連論文
- 次世代フッ素系化合物の開発
- ナフィオン様の性質を持つ含フッ素プラズマ重合膜及びその脂溶性カチオンに対する膜電極への利用
- プラズマ重合膜を用いた化学センサー
- フッ素化合物の摩擦特性
- 非経験的分子軌道法を用いたヒドロフルオロカ-ボンのCoF_3によるモノフッ素化反応の研究
- フロンの無公害な代替物を追って (エコマテリアル) -- (ガイアとの調和--低環境負荷材料)
- フロン代替物の開発--フロン全廃に向けて (今どうなっている あの研究)
- フロンと環境問題
- フロン問題とその対策
- オゾン層を守る (地球環境を考える) -- (地球環境問題の技術的対策)
- フロン問題の行方 (無害化と再利用の化学)
- ペルフルオロヘプチル基で修飾したポリアリルアミンのラングミュア-ブロジェット膜
- オゾン層保護と地球温暖化防止が可能な代替フロンの開発
- 代替フロン物質の地球温暖化係数(GWP)評価に関する研究 : IV
- 次世代のフロン代替物--含フッ素エーテルなどの可能性 (特集 代替冷媒)
- ヘテロ原子を含むフッ素系のフロン代替物の開発
- フロン問題と宇宙船地球号の行方
- フロン代替物質「ヒドロフルオロエ-テル:HFE」の研究開発
- ヘテロ原子を含む新しいフロン代替物の開発--環境保全のために新しいフロン代替物を求めて
- オゾン層を守る代替フロンの開発
- 新世代冷媒HFE-245mcの熱的安定性