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静岡大学大学院電子科学研究科 | 論文

• As_2Se_3ガラスの交流導電率へのMn添加効果
• 30a-A-12 非晶質aS_2Se_3:Tlの電気伝導
• 2p-F-6 非晶質As_2Se_3の交流導電率へのMn添加の影響
• As_2Se_3ガラスの交流導電率への不純物添加効果
• アモルファス酸化タングステンの吸収帯の温度変調分光
• 非晶質As_2Se_3の交流電気伝導に対するCu添加効果
• マイクロ波ラジオメトリ無侵襲温度計測法の温度分解能
• 高分解能紫外逆光電子分光装置の開発
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 青色EL素子用SrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• 電子線蒸着法による石英基板上へのSrS:Cu薄膜の作製と評価(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
• セラミックスの電磁気的・光学的性質 : IV. 磁気的性質積層・薄膜インダクタ
• Al-n形GaAs Schottkyダイオードの逆方向過渡電流
• 直線型プラズマ装置におけるテータ放電の特性
• PZT圧電アクチュエータの低ヒステリシス化
• アルコキシド法により合成したチタン酸鉛超微粒子の焼成過程
• 潜水シミュレータ内の深度による背景騒音

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