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関東学院大学 大学院工学研究科 | 論文
- ホウ酸代替物質を使用したスルファミン酸ニッケル浴から得られためっき皮膜物性とその応用
- UV改質処理を用いたポリイミド上への金属薄膜形成 (MEMS 2006 第16回マイクロエレクトロニクスシンポジウム論文集)
- ビアフィリングの銅めっき成長機構
- スルファミン酸ニッケル浴中のホウ酸の代替物質に関する検討
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- ゾル-ゲル法とスチーム処理を併用したSrBi_2Ta_2O_9薄膜の検討
- ニッケルめっきの皮膜形態におよぼす直接無電解ニッケルめっき法の影響
- 無電解金めっき皮膜特性におよぼす下地めっきの影響
- 高アスペクト比トレンチ内における無電解めっき反応の解析
- 無電解Ni-Pめっき膜中のリンの偏析
- ガラス基板上への無電解NiPめっきの初期析出挙動
- ホウ酸フリースルファミン酸ニッケル浴から得られためっき皮膜物性
- 東京工業大学 中嶋正之研究室
- P3-18 1MHz超音波照射を用いたサイズ依存無電解めっきとナノ光プローブへの応用(ポスターセッション3(概要講演))
- サイボーグ材料への表面技術に思うこと : 今, アクティブアドヒージョンへの理解を!
- ブロックマッチングを用いたステレオ動画像の符号化
- 銅電析における添加剤吸着機構の走査型電気化学顕微鏡による解析
- 低濃度スルファミン酸浴からのニッケルめっき皮膜の特性とMEMSへの応用
- 硫酸銅めっきを用いたフィリングめっき成長過程観察方法
- 垂直磁気異方性コバルト合金薄膜作製のための無電解めっき浴における錯化剤の役割