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産業技術総合研究所電子光技術研究部門 | 論文
- ホログラフィックメモリーの素材 (特集 光メモリーとその周辺技術)
- ホログラムメモリ技術--デジタル情報を2次元画像として記録・再生する大容量光記録方式
- 光応答性高分子薄膜における多様な光誘起現象とその応用
- 熔融Ge-Sb-Te合金の反射光強度測定
- SC-1-2 平板型多層膜レンズの光波伝搬特性(SC-1.光新技術の理論的課題 : 近接場ナノ光学・フォトニック結晶・負屈折率媒質)
- 超高密度100GB光ディスク原盤の形状評価装置の開発--原子間力顕微鏡と光ディスク評価装置を一体化
- 記録メディア(各種記録方式の最新技術,ホログラム記録の現状と実用化への道)
- レーザーで創る機能性ナノパターン
- 電気光学高分子とホログラム材料における展開
- 非線形光学特性と表面増強ラマン散乱への応用 (特集 次世代光基盤研究--近接場光の応用技術)
- 分子軌道法による分子性材料の光学特性の計算
- β-グルコシダ-ゼのモデル化--糖誘導体のカチオン型ミセルへの取り込みと円偏光2色性スペクトル
- 疎水性化合物に対するホストとしてのテトラオキソテトラアザパラシクロファン
- Cyclo(Gly-Pro-Gly)2と金属イオンとの錯体形成
- ヘプチルビオロ-ゲンとシクロデキストリンとの錯体形成
- 疎水性会合体系におけるp-ニトロフェニルヘキサン酸の加水分解反応
- ギ酸脱水素酵素を用いた炭酸ガスの光還元
- 原子・分子の2次元適正配列のシミュレ-ション--2次元駐車問題の計算機実験
- ビオロ-ゲン誘導体による炭酸ガスのギ酸への電気化学的還元
- カルボキシビオチンモデルによるインデンおよびピルビン酸エチルのカルボキシル化