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横浜国立大学大学院・工学部 | 論文
- SFQ回路への光回路の集積 : ISTEC Nb standard process IIを用いた光コンポーネントの検討(超伝導エレクトロニクス基盤技術及び一般)
- 分散制御フォトニック結晶導波路によるスローライト
- C-3-39 カルコゲナイドガラスフォトニック結晶導波路スローライトデバイス(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- CI-2-14 ファウンドリーサービスの研究開発へのインパクトと現状の課題(CI-2.シリコンフォトニクス:ビルディングブロック開発からアプリケーション構築へのステップアップ,依頼シンポジウム,ソサイエティ企画)
- フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用
- Siフォトニクスによる可変遅延器と高速周期光パルス列発生器
- Siフォトニクスによる可変遅延器と高速周期光パルス列発生器(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- Siフォトニクスによる可変遅延器と高速周期光パルス列発生器(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- Siフォトニクスによる可変遅延器と高速周期光パルス列発生器(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- フォトニック結晶スローライトデバイスへのCMOSプロセス適用と加熱による遅延チューニングの応用(一般,フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- C-3-51 10Gb/sで動作するシリコンフォトニック結晶光変調器(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-75 フォトニック結晶導波路スローライトによる高分解能可変遅延とその応用(C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 知能的カラー画像変換による視認性補償システム(「実・バーチャル空間の知覚・認知」及びヒューマン情報処理一般)
- C-3-45 分散制御シリカクラッドフォトニック結晶スローライト導波路における四光波混合(フォトニック結晶・ファイバーグレーティング,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- C-3-63 シリコンフォトニクス電界吸収型Ge光変調器の検討(シリコンフォトニクス,C-3.光エレクトロニクス,一般セッション)
- 長さ100μm以下のSiフォトニック結晶光変調器(フォトニック,NW・デバイス,フォトニック結晶,ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
- 長さ100μm以下のSiフォトニック結晶光変調器(フォトニック,NW・デバイス,フォトニック結晶,ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般)
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