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東京大学、工学系研究科 | 論文

• 化合物半導体MOSFETの研究開発動向と将来展望
• 高性能CMOSのための高移動度チャネル技術の現状と展望(ゲートスタック構造の新展開-チュートリアル講演,ゲート絶縁膜,容量膜,機能膜及びメモリ技術)
• ポストスケーリング時代のCMOSデバイス技術
• 新チャネル材料を使った高電流駆動力CMOSデバイス技術

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