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慶大院理工 | 論文
- ラテックス粒子へのα-アミラ-ゼの固定
- ポリマ-ラテックスの機能化
- 両性ラテックスの合成
- ドデシルポリオキシエチレン硫酸ナトリウム--第二セリウムイオンによるスチレンの乳化合重合
- ポリオキシエチレン系乳化剤-セリウム(IV)イオンによるスチレンの乳化重合に及ぼす乳化剤の分子構造の影響
- ポリオキシエチレンラウリルアミン-第二セリウムイオンによるスチレンの乳化重合
- 27pPSA-12 Co/AlO_x/Co TMR素子の絶縁層AlO_xにおける熱酸化の影響II(27pPSA 領域3ポスターセッション 薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,f電子系磁性磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pPSA-12 TMR素子Co/AlO_x/CoのCo薄膜の磁化状態に関する研究(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 21pPSA-10 Co/AlO_x/Co TMR素子の絶縁層AlO_xにおける熱酸化の影響(領域3ポスターセッション,薄膜・人工格子磁性,表面・界面磁性,微小領域磁性,遍歴磁性,化合物磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-9 Co/AlO_x/Co TMR素子の熱酸化による特性変化(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 12aPS-9 Co/AlOx/CoTMR 素子の定電圧印加での絶縁破壊現象に関する研究(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
- 23aPS-14 絶縁体薄膜の表面状態に関する研究(23aPS ポスターセッション,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 22aPS-56 絶縁層薄膜の表面状態に関する研究(領域3ポスターセッション(f電子,遍歴,化合物,酸化物,磁性一般,表面・界面),領域3,磁性,磁気共鳴)
- 18aPS-3 TMR素子における絶縁層薄膜の表面状態と絶縁破壊の関係(18aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
- 種々の高分子表面に対する好中球様細胞の応答
- 24pPSA-12 Co/Al-oxide/Co TMR素子におけるリーク電流の特性評価(IV)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-11 反応性スパッタ法による絶縁層AlNの研究(II)(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 24pPSA-6 トンネル確率の数値計算による障壁高さ・膜厚の評価(薄膜・人工格子,微小領域,遍歴磁性酸化物,f電子系,実験技術開発等,領域3(磁性,磁気共鳴))
- 発振制御型磁気センシング法の応答特性
- 12aPS-136 Co/Al-oxide/Co TMR 素子におけるリーク電流の特性評価 (3)(磁性・磁気共鳴, 領域 3)
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