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島取大学大学院工学研究科 | 論文
- 粒子成長方向を利用した電着銅薄膜による二軸応力測定法
- 繰返し曲げと静的ねじり負荷が重畳する平板に発生した表面き裂の進展挙動
- その場還元法により形成されたPdクラスター触媒による鈴木・宮浦カップリング反応
- 120 成長粒子の成長方向を用いた電着銅薄膜による二軸応力測定法(材料力学IV)
- 205 ひずみの主軸が変動する要素への銅めっき応力測定法の適用 : 回転曲げに静的ねじり負荷が重畳した場合(材料力学I)
- 電着銅薄膜を利用した二軸応力測定法 : 粒子成長方向を利用した二軸応力比の符号判定方法
- ひずみの主軸が変動する要素への銅めっき応力測定法の適用 : 回転曲げに静的ねじり負荷が重畳した場合
- 電着銅薄膜に発生する成長粒子を利用した繰返し圧力計測法 : 真実接触面を制御した圧力感度の向上
- 円錐状突起を有するニッケル-リン合金薄膜を用いた高圧力計測法
- 1025 微小突起を有する電着金属薄膜を利用した圧力分布の測定(S04-2 実験力学における計測・解析法の新展開(2)新しい試験法と産業応用,21世紀地球環境革命の機械工学:人・マイクロナノ・エネルギー・環境)
- 217 組合せ応力状態における工業用純チタンの表面き裂進展に及ぼす周波数の影響(材料力学IV)
- 202 電着銅薄膜に発生する成長粒子を利用した繰返し圧力測定法 : 真実接触面を制御した圧力感度の向上(材料力学I)
- 201 銅めっき応力測定法のひずみ感度向上 : 局所的な予ひずみと予加熱処理(材料力学I)
- マニューシャ法により得られた指紋の特徴点とニューラルネットワーク用いた認証システムの構築
- 電着銅薄膜を利用した繰返し応力測定法
- 210 静的せん断応力と繰返し曲げ応力が重畳する平板における表面き裂の発生・進展挙動の調査(材料力学VI)
- 119 粒子成長方向を利用した電着銅薄膜による応力測定法(材料力学IV)
- ペロブスカイト酸化物系ReRAMのスイッチングメカニズム(不揮発性メモリ,メモリ(DRAM,SRAM,フラッシュ,新規メモリ)技術)
- S0304-1-2 EBSD法を利用した電着銅薄膜による主応力測定法([S0304-1]応力・ひずみ測定)
- S0305-6-3 非比例負荷を受ける電着銅薄膜の粒子成長挙動([S0305-6]微視組織)