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大阪産業大学工学部電子情報通信工学科 | 論文
- ArFエキシマレーザーによるβ-FeSi_2薄膜の作製とアニール効果
- Nd:YAGレーザーを用いたパルスレーザー堆積法によるβ-FeSi_2薄膜の作製と特性改善
- レーザーアブレーション法により作製した透明導電膜のレーザーアニールによる特性改善
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製した酸化亜鉛系透明導電膜のドーパント依存性
- Low Resistivity Transparent Conducting Oxide Thin Films Prepared by Pulsed Laser Deposition
- PLD法により作製したZnO/In_2O_3積層構造光記録膜
- 磁場を印加したPLD法で作製した低抵抗AZO系透明導電膜
- パルスレーザー堆積法でプルームに磁場を印加して作製したAl-Zn-O系透明導電膜
- 加熱したメッシュを用いたレーザーアブレーション法により作製した酸化亜鉛透明導電膜
- ブルーレーザー対応型光ディスクにおける特性の改善
- 高出力エキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した酸化インジウムスズ透明導電膜
- 高出力パルスレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製した鉄シリサイド(β-FeSi_2)薄膜
- 高周波スパッタリング法により作製した金属・酸化物積層型光記録膜
- 酸化物スプリットターゲットを用いたパルスレーザー堆積法で作製した積層型光記録膜
- 鏡筒一体型ダイレクトドライブモータの起動特性
- ArFエキシマレーザーを用いたパルスレーザー堆積法で作製したITO透明導電膜の電気特性の成膜速度依存性
- パルスレーザー堆積法により作製したZoO系光記録膜(II)
- チェレンコフ自由電子レーザーの基礎理論解析
- 二光束干渉計によるファブリー・ペローフリンジを利用した光学定数測定
- 2次元線形符号の二重クラスタ誤り訂正能力について