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名古屋大学理工科学総合研究センター | 論文
- 25aN-14 シリコンの電子照射アモルファス化を用いたフォトニック結晶
- 25aYL-2 シリコンにおける低温電子照射誘起の欠陥の構造と熱的安定性
- 25aYL-1 電子照射で生成されたアモルファス・シリコンの構造物性
- 28p-ZA-11 シリコンにおける電子線照射効果の低温(4K)その場高分解能TEM観察
- 28p-ZA-10 シリコンおける電子線照射誘起の非晶質化
- 26a-T-3 シリコンの低温での電子線照射効果
- 7a-S-9 シリコン結晶における自己格子間原子クラスター構造とその生成機構
- 6a-S-4 Si-Ge混晶の電子線低温照射欠陥
- 30p-E-8 Si-Ge混晶における電子線照射欠陥
- 水熱プロセスを利用した廃棄物からの高効率レアメタル回収技術の研究開発
- 使用済み電子写真用トナーキャリアの水熱処理による再生
- セラミックスのニュープロセスとナノテクノロジー : 4.セラミックスの再生技術
- 亜臨界水熱処理による超硬合金からのWO_3の回収(極限環境)
- 402 亜臨界水熱処理による超硬合金からの資源回収(高圧力フォーラム, 複合材料の成形・加工最前線)
- 電力機器の絶縁診断とライフサイクルマネージメント
- 高分子中の空間電荷分布測定とその絶縁技術への応用
- 名古屋大学理工科学総合研究センター高効率エネルギーシステム研究室
- 第6回基礎及び最新の分析化学講習会
- 高性能熱分解ガスクロマトグラフィー/質量分析法による高分子材料のキャラクタリゼーション(関東支部創立40周年紀念)
- メタン-空気混合ガスを用いた新構造燃料電池のための固体電解質に関する研究