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住友電気工業(株)光通信研究所 | 論文
- WDM伝送用ファイバグレ-ティングの開発
- ファイバグレーティングのべき型熱劣化特性および長期劣化予測
- BCS-1-7 光ファイバの非線形性に関する最近の技術動向(BCS-1.光通信におけるハイパワー化への期待と課題,シンポジウム)
- BCS-1-7 光ファイバの非線形性に関する最近の技術動向(BCS-1.光通信におけるハイパワー化への期待と課題,シンポジウム)
- C-3-57 誘導ブリルアン散乱抑圧型Al_2O_3-SiO_2コア分散シフト高非線形ファイバ(光ファイバ,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- 誘導ブリルアン散乱抑圧型Al_2O_3-SiO_2コア高非線形分散シフトファイバ((フォトニック)IPネットワーク技術,(光)ノード技術,WDM技術,一般)
- C-3-25 高非線形ファイバを用いた波長選択的・可変的な波長変換(光信号処理・波長変換,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- フッ素添加クラッド型分散補償ファイバの分散補償効率と挿入損失の改善(高機能光ファイバ及び一般)
- C-3-28 γ=30/W/kmの高非線形ファイバによる高効率波長変換(光信号処理・波長変換,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-26 四次分散値を低減した高非線形ファイバによる広帯域波長変換(光信号処理・波長変換,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- C-3-10 フッ素添加クラッドによるスロープ補償型DCFの分散補償性能とFOMの改善(補償デバイス,C-3.光エレクトロニクス,一般講演)
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
- シリカベース高非線形光ファイバとその応用技術(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
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- C-3-39 零分散波長の長手方向変動を抑制したHNL-DSF(C-3. 光エレクトロニクス(光ファイバ), エレクトロニクス1)
- C-3-38 高非線形分散フラットファイバの広帯域化の検討(C-3. 光エレクトロニクス(光ファイバ), エレクトロニクス1)
- B-10-46 低分散スロープ型NZDSFの40Gbit/s伝送への拡張性の実証(B-10.光通信システムB(光通信), 通信2)
- C-3-47 難燃テープ心線の開発
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