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九州産業大学工学部 工業化学科 | 論文
- 銅電解精製における高分子添加剤の経時劣化
- 第4級アンモニウム塩を含む非懸濁溶液からのZn-Al_2O_3分散めっき膜の微細構造
- 第4級アンモニウム塩を含む非懸濁溶液からのZn-Al_2O_3分散めっき
- 電気Znめっき鋼板の白色度,光沢度に及ぼす浴中への微量無機物添加の影響
- 硫酸塩浴からの卑金属(Zn,Cd,Mn)電析の臨界電流密度
- 硫酸塩浴からのZn-鉄族金属合金電析に及ぼすチオシアン酸イオンの影響
- クエン酸を含有する硫酸塩浴からのZn電析の臨界電流密度
- 銅電解精製における高分子添加剤の吸着能および経時劣化の評価
- 反射炉における銅精鉱の融解性について
- 塩化物溶融塩浴からの電析Al-Mn合金の構造
- ホウフッ化物浴からの亜鉛-マンガン合金電析挙動
- Zn上への2-ビニルピリジン電解重合膜の形成に及ぼす通電方法の影響
- 亜鉛電析の臨界電流密度に及ぼす不純物の相乗作用
- 非水溶媒浴を用いた亜鉛系合金の電析機構の検討
- 非懸濁溶液からのZn-Al系分散皮膜の電析
- 電析Ni-Sn合金の微細構造
- 銅電解精製における高分子添加剤の影響
- スルファミン酸浴におけるスルファミン酸イオンの陽極酸化とNi電析に及ぼす影響
- 直鎖状高分子を含む硫酸塩浴からのZn-Cr合金の電析挙動
- Ni-Sn合金の電析挙動と微細構造