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Yokoyama Haruki | NTT Photonics Laboratories, 3-1, Morinosato Wakamiya, Atsugi-shi, Kanagawa 243-0198, Japan
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NTT Photonics Laboratories, 3-1, Morinosato Wakamiya, Atsugi-shi, Kanagawa 243-0198, Japanの論文著者
NTT Photonics Laboratories, 3-1, Morinosato Wakamiya, Atsugi-shi, Kanagawa 243-0198, Japan | 論文
Thermal Diffusion of Si Atoms in Delta-Doped n-Type InAlAs Grown by Metal-Organic Vapor-Phase Epitaxy
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