Kim Seong-Il | Semiconductor Materials Laboratory, Korea Institute of Science and Technology, P.O. Box 131, Cheongryang, Seoul 136-791, Korea

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Semiconductor Materials Laboratory, Korea Institute of Science and Technology, P.O. Box 131, Cheongryang, Seoul 136-791, Korea | 論文

• Improvement of the Reliability of a Cu/W–N/SiOF Multilevel Interconnect by Inserting Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposited W–N Thin Film

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