Yamazaki Atsuyo | Research & Development Center, ZEON Corporation, Kawasaki 210-9507, Japan

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概要

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Research & Development Center, ZEON Corporation, Kawasaki 210-9507, Japan | 論文

• Highly Selective Etching of SiO2 over Si3N4 and Si in Capacitively Coupled Plasma Employing C5HF7 Gas

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