LEE S. | DRAM Process Architecture Team, Samsung Electronics Co., Ltd.

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概要

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• DRAM Process Architecture Team, Samsung Electronics Co., Ltd.の論文著者

DRAM Process Architecture Team, Samsung Electronics Co., Ltd. | 論文

• A Novel Cell Structure with Bit Line Cap Spacer (BCS) and Top Enlarged Storage Node Contact (TESC) for 90nm DRAM Technology and Beyond

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