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Kalisch Holger | GaN Device Technology, RWTH Aachen, Sommerfeldstr. 24, 52074 Aachen, Germany
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GaN Device Technology, RWTH Aachen, Sommerfeldstr. 24, 52074 Aachen, Germanyの論文著者
GaN Device Technology, RWTH Aachen, Sommerfeldstr. 24, 52074 Aachen, Germany | 論文
Formation of a Monocrystalline, M-Plane AlN Layer by the Nitridation of \gamma-LiAlO2(100)
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