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泊 一秀 | 新別府病院・整形外科
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超高濃度BドープSi/GeB超格子構造の作製と熱電特性(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料))
Si、GeのIBS成長におけるスパッタガスの検討(III族窒化物研究の最前線)
31a JA-11 ^Pb(p,t)反応
Si、GeのIBS成長におけるスパッタガスの検討(III族窒化物研究の最前線)
Si、GeのIBS成長におけるスパッタガスの検討(III族窒化物研究の最前線)
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