中村 真生 | 八戸工業高等専門学校・物質

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概要

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関連著者

• 中村 真生

  八戸工業高等専門学校・物質

• 菊地 康昭

  八戸工業高等専門学校・物質

• 佐々木 有

  八戸工業高等専門学校

• 菊地 康昭

  八戸工業高等専門学校物質工学科

• 中居 めぐみ

  八戸工業高等専門学校・物質工学科

• 福田 隆之

  ボゾリサーチセンター

• 小熊 義宏

  ボゾリサーチセンター

• 田中 誠人

  八戸工業高等専門学校・物質

• 中村 隆典

  姫路獨協大学・薬

• 庭田 晃良

  八戸工業高等専門学校・物質

• 山口 典子

  ボゾリサーチセンター

• 中居 めぐみ

  八戸工業高等専門学校・物質

• 佐々木 有

  姫路獨協大学・薬

• 佐々木 有

  八戸工業高等専門学校・物質:姫路獨協大学・薬

• 中村 真生

  八戸工業高等専門学校・物質:ボゾリサーチセンター

• 佐々木 有

  姫路獨協大学・薬:八戸工業高等専門学校・物質

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著作論文

• P-051 コメットアッセイによってヌクレオチド除去修復と塩基除去修復の分別は可能か(II.DNA損傷、修復,ポスターセッション)
• P-052 どの程度の大きさのアルキル付加物は塩基除去修復によって除去されないか(II.DNA損傷、修復,ポスターセッション)
• P-064 コメットアッセイによってヌクレオチド除去修復と塩基除去修復の分別は可能か(第2報)(ポスターセッション)
• P-065 どの程度の大きさのアルキル付加物はヌクレオチド除去修復によって除去されるか(ポスターセッション)

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