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LYNN J. | Electronics Research Laboratory, DSTO
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シャトルボックス条件回避行動時におけるHatano高回避系および低回避系ラットの内分泌学的系統差
イオン性両親媒性高分子の特性・自己組織化とその制御
中性子散乱・反射率法によるイオン性両親媒性高分子会合体の構造とその形成メカニズム
中性子反射率
X線・中性子小角散乱法-高分子ミセルへの応用を例として-
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