Maeda Kazuo | Semiconductor Process Laboratory Co., Ltd., Minory Bldg., 2012-4 Endo, Fujisawa, Kanagawa 252-0816, Japan

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Semiconductor Process Laboratory Co., Ltd., Minory Bldg., 2012-4 Endo, Fujisawa, Kanagawa 252-0816, Japan | 論文

• Low-$k$ SiOCH Film Deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Hexamethyldisiloxane and Water Vapor

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