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Jang Syun-Ming | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Science-Based Industrial Park Hsinchu, Taiwan
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Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Science-Based Industrial Park Hsinchu, Taiwanの論文著者
Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Science-Based Industrial Park Hsinchu, Taiwan | 論文
Physical and Barrier Properties of Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposited $\alpha$-SiC:H Films from Trimethylsilane and Tetramethylsilane
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