YAMAWAKI Shigemichi | Ishikawajima-Harima Heavy Industries, Co.

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概要

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論文 | ランダム

• In-situ After-treatment Using Low-energy Dry-etching with a CF4/O2 Gas Mixture to Remove Reactive Ion Etching Damage
• Electronic structure of bathocuproine on metal studied by ultraviolet photoemission spectroscopy
• 座長集約37
• 184.三相X線高電圧装置における波形改善(第38回総会会員研究発表)(診断用装置-2X線発生装置他)
• 213.テトロードを用いたX線高電圧装置(第37回総会会員研究発表)(診断用装置-2 X線発生装置他)

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