中西 英治 | 大阪ガス株式会社, 研究開発部 基盤研究所
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概要
論文 | ランダム
- 非相反移相効果増大のためのAlInAs選択酸化による低屈折率クラッド層の形成(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
- 非相反移相効果増大のためのAlInAs選択酸化による低屈折率クラッド層の形成(光部品・電子デバイス実装技術, 一般)
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- 時間相関イメージセンサと磁性ガーネット結晶を用いる交流漏洩磁束映像法