Furuta Hiroshi | Research Institute, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami, Kochi 782-0003, Japan

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概要

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Research Institute, Kochi University of Technology, 185 Miyanokuchi, Tosayamada-cho, Kami, Kochi 782-0003, Japan | 論文

• SiO2 Insulator Film Synthesized at 100 °C Using Tetramethylsilane by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition

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