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Hiroshi Oba | SII NanoTechnology Inc., Oyama, Shizuoka 410-13, Japan
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SII NanoTechnology Inc., Oyama, Shizuoka 410-13, Japanの論文著者
SII NanoTechnology Inc., Oyama, Shizuoka 410-13, Japan | 論文
Deposition Yield and Physical Properties of Carbon Films Deposited by Focused-Ion-Beam Chemical Vapor Deposition
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