ISHIKAWA SHINSUKE | Research Center, Ando Corporation
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概要
論文 | ランダム
- 30aUD-9 トカマクプラズマにおける積分誘電率を用いた二次元波動伝播解析(加熱/診断法/放電物理,30aUD 核融合プラズマ(加熱),領域2(プラズマ基礎・プラズマ科学・核融合プラズマ・プラズマ宇宙物理))
- プラズマプロセスによる有機系低誘電率材料の開発 (特集 プラズマ科学の開発と応用)
- 高速超LSI用プラズマCVD膜生成のコンピュータシミュレーション--低誘電率(Low-k)プラズマCVD SiOxFy膜の生成
- Analysis of the Lactobacillus Metabolic Pathway
- 誘導結合型フルオロカーボンプラズマを用いた高誘電率HfO2薄膜のエッチング