Yachi Toshiaki | NTT Integrated Information and Energy Systems Laboratories, 3-9-11 Midori-cho, Musashino, Tokyo 180, Japan

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NTT Integrated Information and Energy Systems Laboratories, 3-9-11 Midori-cho, Musashino, Tokyo 180, Japan | 論文

• Effect of Buried Oxide Thickness in a Thin-Film Silicon on Insulator Power Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor

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